半导体材料+国产替代 龙头股最新梳理（光刻胶、电子特气等材料）
电子特气：南大光电的高纯磷烷、砷烷纯度已达99.99999%，打破了国外巨头长达30年的垄断，产品成功导入英特尔、飞利浦等国际一流企业供应链。
光刻胶
4家企业现新进展：优迅股份回复二轮问询 光刻胶生产商恒坤新材IPO注册生效|科创板IPO周报
具体来看，长进光子科创板IPO审核状态变更为已问询；强一股份完成首轮问询并更新招股书；优迅股份完成第二轮问询回复；恒坤新材科创板IPO在证监会注册生效。
半导体制造的光刻工艺常用光刻胶系列
TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。
奇美化工：光刻胶领域的创新先锋
在科技飞速发展的今天，光刻胶作为显示行业的关键材料，正成为推动产业升级的核心力量。位于经开区新材料产业园的镇江奇美化工有限公司凭借其在光刻胶领域的创新突破，不仅打破了国外技术垄断，还为国内显示行业的发展注入了强大动力。
中国首个EUV光刻胶平台落地无锡，芯片卡脖子材料迎来突破
但很多人可能不知道，光刻机只是“相机”，真正的底片是光刻胶。没有光刻胶，光刻机再强大，也拍不出清晰的芯片电路。过去很长一段时间，这个“隐形英雄”几乎被国外垄断。
无锡启动国内首个EUV光刻胶技术平台 打破5nm以下工艺关键材料垄断
近日，在2025集成电路（无锡）创新发展大会上，无锡市政府宣布启动两项半导体材料领域重大突破性项目，标志着中国在EUV光刻胶核心技术领域取得关键进展，有望打破国外长期垄断。
全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动
本次大会上宣布了多个重磅项目，除了算力平台外，还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台，其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。
光刻机、光刻胶概念异动拉升，苏大维格等多股涨停
光刻机、光刻胶概念盘中震荡拉升，苏大维格、泰和科技、凯美特气涨停，晶瑞电材、新莱应材、江化微、容大感光、南大光电等跟涨。消息面上，据报道，国内半导体装备企业新凯来宣布，将参加第十三届半导体设备与核心部件及材料展(CSEAC 2025)。本届展会将于9月4日至6
光刻胶运输保存：温湿度监测为何是“生命线”
从手机芯片到高清显示面板，半导体产业的每一次突破，都离不开一种关键材料的支撑 —— 光刻胶。它被誉为半导体制造的“灵魂材料”，其质量直接决定了终端产品的性能与精度，是产业链中不可或缺的核心环节。然而，就是这样一种对产业发展至关重要的材料，在从生产车间到应用工厂
资本市场光刻胶板块再添新成员 恒坤新材科创板 IPO成功过会
作为中国境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发与量产能力的企业之一，恒坤新材不仅打破了12英寸集成电路关键材料的国外垄断，其自产光刻材料的销售规模也跻身行业前列。
【脱水研报】IC光刻胶国内龙头，高端ArF光刻胶开始量产接单
公司是全球领先的新材料综合服务商，目前业务主要覆盖三大领域，包括电子材料、汽车/轮胎特种材料、全生物降解材料。其中，电子材料主导产品包括半导体光刻胶、显示面板光刻胶及配套高纯试剂。
全球顶级芯片都依赖的PSPI，如何打造“隐形铠甲”颠覆传统光刻胶市场？
光敏聚酰亚胺（Photosensitive Polyimide，PSPI）是一种具有光敏性和耐热性双重功能的聚酰亚胺溶液，属于高端聚酰亚胺，是一种在高分子链上兼有亚胺环以及光敏基因的有机材料，在暴露于光或紫外线时会硬化并聚合。
飞凯材料跌2.84%，成交额18.89亿元，后市是否有机会？
2023年9月11日互动易回复：目前公司光刻胶产品主要有两类，第一类主要是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品，当下两者已形成稳定营收；第二类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶，其中i-line光刻胶和Barc光刻胶
中国股市：10只“光刻胶”龙头股出炉（附股）
光刻胶又称光致抗蚀剂，是通过紫外光等照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。全球光刻胶市场约40亿美元，其中g/i线、KrF、ArF光刻胶占比超80%。日本企业（如JSR、东京应化）占据全球85%以上高端市场，国产化率不足10%，尤其在ArF及以上节点几
光刻胶国产替代 ，“四大金刚” 突围在即！
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
光刻胶烘烤概述
在微电子制造与半导体工业中，光刻技术是芯片图案化的核心工艺。光刻胶作为光刻工艺的“画笔”，其性能直接决定了电路图案的精度与良率。而在光刻胶处理流程中，烘烤步骤犹如一场精密调控的化学反应，通过温度与时间的精确配合，确保光刻胶从液态涂布到稳定结构的完美蜕变。本期将
消息称三星电子在 DRAM 内存领域率先导入干式光刻胶技术
韩媒 ETNews 当地时间昨日报道称，三星电子在 DRAM 内存领域率先导入干式光刻胶 (Dry PR) 技术，将应用于到即将正式推出的第 6 代 10 纳米级工艺 (1c nm) 中。
触摸屏用光刻胶市场占有率排名报告2025
据恒州诚思调研统计，2024年全球触摸屏用光刻胶市场规模约84.9亿元，预计未来将持续保持平稳增长的态势，到2031年市场规模将接近134.2亿元，未来六年CAGR为6.8%。
中国芯片突围之际，日本突然背刺！光刻胶被断供，我们到底咋办？
4月3日，日本宣布对华实施EUV光刻胶出口管制的消息。许多人可能会疑惑：光刻胶？那不就是一种化学材料吗？为什么这样一种看似普通的"胶水"，会成为价值数万亿的半导体产业命脉，甚至被用作全球政治与科技博弈的筹码？
飞凯材料跌1.73%，成交额10.12亿元，后市是否有机会？
2023年9月11日互动易回复：目前公司光刻胶产品主要有两类，第一类主要是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品，当下两者已形成稳定营收；第二类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶，其中i-line光刻胶和Barc光刻胶